半导体产品的生产需要使用高纯度材料、严格控制流程、使用具有高灵敏度和分辨率的分析和控制系统来适应化学变化、分析技术的高稳定性和可重复性
ProC-TOF采用低压光电离 (LPPI) 技术， 突出于以下具体有以下应用
1.气体纯度监测
ProC系列气体分析系统是具有 ppb级检测限，是气体纯度应用的首选产品。采用了公司的新技术：低气压光电离源电离源 (LPPI)，一种软电离源，使谱图简方便解读。
2. 光刻技术
ProC-TOF系列质谱仪(为用户提供专业订制)以高灵敏度和分辨率，可分析表征材料释气以及光刻胶分解过程中产生的物质气体。
3. MBE监控
分子束外延Analysis of Molecular Beam Epitaxy (MBE) 的分析需要使用具有极高灵敏度和低噪声电子设备的质谱仪，用于监测多分子束的低通量率和分子束进行超高真空 (UHV) 残留气体分析。
4. 等离子体和 CVD 过程监控
等离子蚀刻、化学气相沉积Chemical Vapor Deposition (CVD)和等离子增强化学气相沉积 (PECVD) 应用需要对过程中涉及的复杂化学物质有透彻的了解。
对于等离子体应用，科学家们选择 ProC-特制质谱仪。这些检测系统具有执行能量分析的能力，提供高性能和速度。
在高背景下监测非常低的分压成分。也可以测量离子、自由基和中性离子。也可以处理高达大气压的过程。
5. 洗涤器/燃烧箱效率
对有害空气污染物(HAP) 和温室气体的破坏和去除效率(DRE) 的监测。
ProC-TOF质谱仪系统用于帮助减少排放并确保符合法规的要求，提高减排系统的效率。减少可燃气体的洗涤器燃烧箱。检测物包括 HAP、卤化挥发性有机化合物 (HVOC)、温室气体、铅和锗，
6.半导体行业：空气分子污染 AMC的自动监测
专门定制ProC-TOF可用于统一标准箱FOUP、晶圆厂和洁净室环境监控，利用质谱法实时监测FOUP清洗过程中污染物的浓度变化趋势。
晶圆运输盒(FOUPs)来运送和临时储存晶圆的过程中，精准测量内壁逸出的低浓度污染物有助于调整生产流程;减少晶圆缺陷，优化FOUP清洁过程。基于现有FOUP的测量结果可设计开发下一代FOUPs，
制造工厂的洁净室监控：
外部和进气的监测：自动围栏线监测等